L’oxyde de gallium() est un composé chimique de formule . Il s'agit d'un solide brun-noir diamagnétique stable au contact de l'air sec. Il se sublime à dans un flux de gaz inerte sous une pression de , et à partir de dans un vide poussé, où il se décompose en gallium et oxyde de gallium(III) à partir de .
L'oxyde de gallium(I) peut être obtenu en faisant réagir de l'oxyde de gallium(III) avec du gallium chauffé sous vide : + 4 Ga ⟶ 3 .
Il peut également être obtenu en faisant réagir du gallium avec du dioxyde de carbone à basse pression et à N. N. Greenwood, « The Chemistry of Gallium », H. J. Emeléus et A. G. Sharpe, Advances in inorganic chemistry and radiochemistry, , Academic Press, New York, 1963, , ici . : 2 Ga + ⟶ + CO.
Il se forme également lors de la fabrication de wafers d'arséniure de gallium par réaction du gallium avec le dioxyde de silicium des parois en verre de quartz Paul Siffert et Eberhard Krimmel, Silicon: Evolution and Future of a Technology, Springer, 2004, . L.-J. Chou, Nanoscale One-dimensional Electronic and Photonic Devices (NODEPD), The Electrochemical Society, 2007, . : 4 Ga + ⟶ 2 + Si.
Notes et références
gallium