thumb|325x325px|Transistor NPN à effet de champ, 1957 Carl John Frosch (né le et mort le )Nach Adressbuch, Summit, New Jersey, wohnte er zuletzt in Summit, New Jersey mit seiner Ehefrau Ruth est un chimiste américain des Laboratoires Bell. Avec le technicien Lincoln J. Derick (dit Link Derick), il invente en 1955 le masquage au dioxyde de silicium, qui marque une étape décisive dans l'émergence du procédé planar et la fabrication en série de circuits intégrés1955 – Development of Oxide Masking, Computer History Museum (cf. Oxydation thermique).
Biographie Frosch grandit à Ilion (New York) puis étudie à Union College (anglais)..
Employé comme chimiste des procédés au sein de l'équipe de , chargée du dopage des semi-conducteurs, il découvre, après une erreur de manipulation, toute l'importance des effets de masquage par oxydes dans le silicium ; jusque-là, on préférait le germanium au silicium, car ce dernier devait être manipulé sous vide ou dans une atmosphère d'azote afin d'éviter les effets d'oxydation, qui « grillaient » la matrice. Frosch et Derick tentent d'abord d'éliminer cette oxydation superficielle par des attaques acides . avant de réaliser qu'elle préserve la sensibilité du silicium, et qu'elle est perméable à certains agents dopants (comme le gallium), mais étanche à d'autres (le bore, le phosphore) : ainsi, il devient possible de procéder au dopage sélectif des substrats au silicium. Ils brevetèrent leur invention au mois de .
Frosch et Derick montrent aussi comment doper le silicium avec des porteurs de charge minoritaires en perçant localement la couche d'oxydes. (1957). Jean Hoerni, ingénieur chez Fairchild Semiconductor, obtient une copie de l'article de Frosch par des chercheurs de Shockley Semiconductor Laboratory ; il a tôt fait de perfectionner ces techniques, en exploitant la protection apportée par la couche d'oxydes à la jonction PN, chaque fois que la couche de dopant s'étend sous cette couche protectrice.
Frosch s'établit à Summit (New Jersey).
Références
Articles connexes Holonyak, The origins of diffused silicon technology at Bell Labs 1954-55, pdf, avec une photo de Frosch et Derick Mark Burgess, Diffusion Technologies at Bell Laboratories
Catégorie:Chimiste américain du XXe siècle Catégorie:Élève de l'Union College Catégorie:Scientifique des laboratoires Bell Catégorie:Naissance en septembre 1908 Catégorie:Décès en septembre 1984