Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы сокр., ПХО; ПХГФО иначе плазмохимическое газофазное осаждение; осаждение из паровой фазы стимулированное плазмой () — процесс химического осаждения тонких плёнок из паровой фазы при низком давлении с использованием высокочастотной плазмы.
Описание Технология плазмохимического осаждения использует газоразрядную плазму для разложения реакционного газа на активные радикалы. Применение различных приёмов возбуждения плазмы в реакционном объёме и управление её параметрами позволяет:
- интенсифицировать процессы роста покрытий;
- проводить осаждение аморфных и поликристаллических плёнок при значительно более низких температурах подложки;
- более качественно управлять процессами формирования заданного микрорельефа, структуры, примесного состава и других характеристик покрытия по сравнению с аналогичными процессами при химическом осаждении из газовой фазы (CVD), основанными на термическом разложении реакционного газа.
Этим методом успешно получают алмазоподобные покрытия. См. также Химическое осаждение из паровой фазы Ионное распыление Ионная имплантация Плазмохимический синтез нанопорошков Финишное плазменное упрочнение
Примечания
Литература
НТЦ Нанотехнология, 2006. — www.nano.org.ua Передовые плазменные технологии // Intech, 2008. — www.plasmasystem.ru
Соснин Н. А., Ермаков С. А., Тополянский П. А. Плазменные технологии. Руководство для инженеров. Изд-во Политехнического ун-та. СПб.: 2013. - 406 с.
Категория:Тонкие плёнки Категория:Технологии электроники Категория:Плазмохимические технологии