A Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. (SMEE) é uma empresa de equipamentos para fabricação de semicondutores sediada em Xangai, na China. A empresa atua na pesquisa, desenvolvimento, fabricação e venda de escâneres de fotolitografia e ferramentas de inspeção para a indústria de fabricação de semicondutores, oferecendo também serviços de suporte técnico aos seus clientes.
História A SMEE foi estabelecida em 2002 por He Rongming, ex-vice-presidente da Shanghai Electric. Inicialmente, tratava-se de um projeto de pesquisa em tecnologia de máquinas de litografia sob o âmbito do Programa 863. Após anos de pesquisa, a SMEE lançou a primeira máquina de litografia de fabricação nacional para uso comercial.
Em dezembro de 2017, a SMEE assinou um contrato com a CSC Financial para preparar a sua abertura de capital. Durante o processo, captou investimentos de grupos como o China Everbright Limited. Posteriormente, ocorreu uma reestruturação na equipe de gestão, o que levou à saída de He Rongming no início de 2018.
Histórico de produtos Antes de 2023, o produto mais avançado da SMEE para a fabricação inicial (front-end) de chips de semicondutores era o SSA600, cuja resolução de varredura é capaz de fabricar circuitos integrados de silício na classe de 90 nm. A série SSA600 foi descrita por observadores como uma ferramenta de litografia ultravioleta profunda por imersão equipada com um laser de excímero de fluoreto de argônio (ArF) emitindo luz ultravioleta coerente no comprimento de onda de 193 nm.
SSA800x (dezembro de 2023) Em dezembro de 2023, a imprensa ocidental informou que a SMEE havia concluído o desenvolvimento inicial de sua nova máquina de litografia de imersão SSA800-10W, que possui resolução de varredura capaz de fabricar chips na classe de processo de 28 nm. Unidades do novo equipamento teriam sido entregues a fabricantes como a SMIC e a institutos de pesquisa. A série SSA800 continua a utilizar o laser ArF como fonte de luz, mas incorpora ferramentas e componentes aprimorados que permitem a definição de estruturas de circuito associadas à tecnologia de 28 nm. Veículos de imprensa relataram que o equipamento foi projetado sem o uso de propriedade intelectual oriunda dos Estados Unidos em seus componentes. Analistas sugerem que o governo chinês solicitou à SMEE um comparativo de desempenho do sistema DUV por imersão de 28 nm em relação ao sistema semelhante NXT:2000i da ASML, e que o SSA800 faz parte de uma linha de produção totalmente doméstica em fase de testes e certificação. No início de 2024, o site oficial da SMEE ainda não listava a máquina de litografia SSA800 em seu catálogo de produtos.
No futuro, uma variação do SSA800 poderá ser aplicada em processos abaixo do nó de 28 nm mediante técnicas de múltiplos padrões (multi-patterning). De modo geral, técnicas de múltiplos padrões desenvolvidas na fotolitografia permitem que máquinas de litografia de imersão com fonte de luz laser ArF estruturem circuitos integrados em nós avançados de 7 nm ou até 5 nm. Por exemplo, em 2016, reportagens indicavam que o processo de 10 nm da Intel utilizava máquinas DUV de imersão combinadas com técnicas de duplo padrão autoalinhado para alcançar a dimensão desejada dos circuitos, sem recorrer à litografia ultravioleta extrema (EUV).
O equipamento SSA800 da SMEE apresenta uma defasagem temporal em relação à líder do setor, a ASML Holding, que entregou suas primeiras máquinas capazes de operar em 28 nm à TSMC em 2011.
Portfólio anterior a 2023 Antes da introdução da série de escâneres SSA800 em 2023, a SMEE havia desenvolvido uma gama de equipamentos de litografia, metrologia e periféricos, incluindo quatro séries de máquinas voltadas para a fabricação inicial de circuitos integrados (como os escâneres da série SSA600), encapsulamento final de CIs, LEDs, MEMS, dispositivos de potência e transistores de filme fino (TFTs).
Litografia EUV Em 2024, a SMEE registrou uma patente para um escâner de litografia EUV voltado à fabricação de chips avançados, tecnologia produzida comercialmente de forma exclusiva pela holandesa ASML. Observadores apontam que podem existir até três iniciativas paralelas na China — envolvendo entidades privadas, estatais e acadêmicas — com o objetivo de desenvolver e entregar um protótipo de escâner de litografia EUV nos anos subsequentes. O principal direcionador para o desenvolvimento de equipamentos avançados de litografia na China tem sido o apoio estatal para reforçar a colaboração público-privada e incentivar a inovação, visando superar gargalos tecnológicos por meio da transferência de P&D estatal para empresas privadas selecionadas, como a SMEE.
Sanções dos Estados Unidos Em dezembro de 2022, como parte das medidas dos Estados Unidos para restringir o avanço chinês em equipamentos de semicondutores, o Departamento de Comércio dos Estados Unidos adicionou a SMEE à Entity List do Bureau of Industry and Security.
Ver também ASML Holding Semiconductor Manufacturing International Corporation
Ligações externas
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